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  • 晶圆接受测试WAT技术与测试方法

    本文介绍了晶圆接受测试WAT技术与测试方法。

    2025/01/21 更新 分类:科研开发 分享

  • 清华大学实现晶圆制造历史突破

    清华大学实现晶圆制造历史突破,首台12英寸(300mm)超精密晶圆减薄机已经正式出货。

    2021/10/10 更新 分类:科研开发 分享

  • 晶圆缺陷种类及去除机理

    对半导体晶圆在湿法清洗工艺中可能导致的各种缺陷成因进行分析,并对缺陷的处理方式做了简要探讨。

    2024/10/17 更新 分类:科研开发 分享

  • 披露1.4nm细节,英特尔更新晶圆代工路线图

    今天,英特尔举办了晶圆代工大会,会上公司指出,正在与主要客户洽谈即将推出的14A工艺节点(相当于1.4纳米),该节点是18A工艺节点的后续产品。

    2025/04/30 更新 分类:科研开发 分享

  • 半导体晶圆湿法清洗技术

    本文重点介绍了IC污染物杂质的分类和半导体湿法清洗技术。

    2021/05/20 更新 分类:科研开发 分享

  • Full Mask(全掩膜)和 MPW(多项目晶圆)两种流片方式的区别与联系

    Full Mask(全掩膜)和 MPW(Multi Project Wafer,多项目晶圆)是集成电路制造中两种不同的流片方式,它们在成本、生产和工艺上各有特点。

    2025/03/25 更新 分类:科研开发 分享

  • 浅谈集成电路封装过程中的风险评估

    大体而言集成电路产业可分为三个阶段:电路设计,晶圆制造,封装测试。电路设计大体是一群电路系统毕业的学霸搞出来的(因为学霸,所以高薪),他们把设计好电路给晶圆制造厂(台积电、联电、中芯国际……),最后圆片从晶圆厂发货到封装测试厂(日月光、安靠、长电科技……)。

    2021/03/22 更新 分类:科研开发 分享

  • “离子刀”大尺寸晶圆异质集成技术取得进展

    近日,中国科学院上海微系统与信息技术研究所制备出通信波段马赫-曾德尔干涉仪型硅基铌酸锂高速电光调制器。

    2024/04/01 更新 分类:科研开发 分享

  • 芯片制造全流程

    一般来说,我们所知道的半导体制造的八大工艺分别为:晶圆加工、氧化、光刻、刻蚀、沉积、金属互连、测试和封装。

    2025/04/07 更新 分类:科研开发 分享

  • 阿尔法粒子发射率测试的样品要求

    针对半导体器件中所有发射阿尔法粒子的材料,包括塑封料、焊球、晶圆等,均可进行阿尔法粒子发射率测试,覆盖各种阿尔法粒子发射率等级。本文主要介绍进行阿尔法粒子发射率测试的样品要求。

    2020/09/11 更新 分类:科研开发 分享