芯片制造中的离子注入Ion implant 。

2025/07/08 更新 分类：科研开发 分享

本文介绍了离子注入后退火对晶体结构影响。

2025/05/08 更新 分类：科研开发 分享

在进行离子注入工艺时，入射方向需要倾斜一个角度，一般偏离晶面法线7°到10°之间，这是为什么呢？

2025/04/18 更新 分类：科研开发 分享

在半导体制作过程中，通过氧化工艺形成的氧化膜也同样具有稳定性。它可以防止其他物质的穿透，因此在离子注入工艺中非常实用。

2025/04/03 更新 分类：科研开发 分享

简要介绍了阳极氧化、微弧氧化、离子注入、溶胶-凝胶、等离子喷涂及化学沉积等表面改性方法的原理，并比较其优缺点；提出了可生物降解镁及镁合金表面改性涂层研究中面临的问题，并展望了未来发展方向。

2021/04/08 更新 分类：科研开发 分享

聚乙烯亚胺(PEI)作为镁(Mg)的涂层，表现出令人满意的防腐能力和良好的粘附强度，我们改变了PEI涂层镁植入物的物理和化学性质。等离子体浸没离子注入技术与直流(DC)磁控溅射相结合，将生物相容的钽(Ta)引入到PEI涂层的表面。使其为前成骨细胞的粘附、增殖和分化产生了长期的表面亲水性并显示出显著增强的骨组织亲和力和骨整合能力。

2021/01/28 更新 分类：科研开发 分享