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嘉峪检测网 2024-01-16 11:14
| 工艺 | 用途 | 替代方案 |
| 流程 | ||
| 光刻 | 光刻胶 | 富士胶片Krf （248 nm）、DOWTM光刻胶已满足PFOA或PFOS Free，但PFAS可替代情况尚不明确，部分产品中可用碳氢基润滑脂、二硫化钼、石墨替代 |
| 光刻胶 | 无替代方案 | |
| （光敏剂） | ||
| 光刻胶（光致产酸剂，PAG） | 能形成强酸的无氟替代品，如芳香族PAG、杂芳香族PAG（三苯基硫鎓苯并[b]噻吩- 2-磺酸，4（或7） -硝基-离子（1-）（TPS TBNO））、不含氟的PAG | |
| 光刻胶 | 无替代方案 | |
| （猝灭剂） | ||
| 显影 | 显影液添加剂 | 无氟表面活性剂的专利已见报道，但可替代情况尚不明确 |
| 清洗 | 漂洗液添加剂 | 可替代情况尚不明确 |
| 刻蚀 | 干法刻蚀剂、 | 能形成强酸、具有低表面张力、低折射率的替代品 |
| 湿法刻蚀剂 | ||
| 清洁刻蚀剂 | 可替代情况尚不明确 | |
| 晶圆减薄 | 载体晶圆表面的不粘涂层 | 低表面张力的替代品 |
| 焊接 | 气相焊接 | 无替代方案 |
| 传热介质 | ||
| 其他 | 减反射膜 | AZ Aquatar 8（氟烷酸酯）、 |
| DOWTM减反射膜已满足PFOA或PFOS Free，但PFAS可替代情况尚不明确 | ||
| 微机电系统（MEMS）加速度计、 | 无替代方案 | |
| MEMS图像传感器 | ||
| 模具、管道、化学容器、反应表面等惰性元件 | 无氟聚合物，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺等 | |
| 半导体器件冷却剂 | 矿物油、合成油、天然油、碳氢化合物流体 | |
| 真空泵工作液 | 性质稳定、非反应性的替代品 |
来源：SGS限用物质测试服务
